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其实做光刻机的主要工艺差不多，但是7nm的光刻机升级到5nm，就需要一些新的工艺来实现，需要的工艺精度也更高。有些工艺只需要升级现有设备就可以提高纳米精度，但是精度一旦提高到一定程度，必须要突破传统工艺，才能实现。我们国家，目前还达不到这个水平，现在90纳米的光刻机是可以生产的，90纳米升级到65纳米相对容易些，但是再向上升，其工艺就变了。

光刻机属于集人类智慧与大成的设备，我们起步晚材料与工艺技术受国外限制，有钱也不卖给我们。即使我们买来了相关设备，也没有能力仿造，这是一个整体工艺技术无法突破造成的。希望不久的将来，我们有我们自己的技术。

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